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清晨六点，研究院“第七实验室”的核心实验区依旧灯火通明。
低沉的制冷机嗡鸣与仪器运行的细微电子音构成了背景声。
叶舒妍已经在这里待了超过二十小时，白大褂的衣角有些皱，但她的眼神锐利如初，紧紧盯着面前几块显示屏上跳动的数据和实时成像。
她身后站着材料组和实验组的核心成员，同样熬得双眼发红，却都屏息凝神，不敢有丝毫松懈。
屏幕上显示的是分子束外延设备的实时监控与成分分析结果。
他们正在尝试生长范长生提供的“异质结拓扑保护层”概念中最基础的双层结构。
这不是最终目标，却是验证那个“逆向构建自洽模型”思路的第一步关键实验——验证特定材料在极端条件下能否形成预期的、具有特殊电子态的界面。
参数设置经过了“太初”数以万计的模拟优化，但真正的生长窗口依然狭窄得令人窒息。
前三次尝试都因为难以察觉的衬底温度波动或束流比偏差而失败，得到的只是普通的多晶或非理想界面。
“第四次生长，参数微调组3，启动。”叶舒妍的声音平静，下达指令。
设备再次运行。时间一分一秒过去，监控曲线如履薄冰般在设定的狭窄区间内颤抖着前进。气氛凝重得几乎能拧出水来。
三十分钟后，生长结束。样品被迅速转移到连接着的低温扫描隧道显微镜的真空腔体内。
冷却，逼近，扫描。
高分辨率电子态密度分布图像一点点在屏幕上构建出来。所有人都凑近了看。
图像中央，在两种材料的界面处，出现了一条极其细微、但清晰可辨的、不同于两侧体材料特征的电子态分布带。
其特征与“太初”根据范长生思路推演出的、理想界面可能出现的拓扑边界态初步特征，有高度吻合的迹象！
“出现了……”
材料组负责人声音干涩，带着难以置信的颤抖，“虽然还很弱，信号不稳定，但这个特征……这个位置……和模拟预测的边界态位置吻合！”
实验区内安静了一瞬，随即爆发出压低声音的欢呼和激动地握拳。
这不是最终成功，甚至离真正证明“拓扑保护”还差得很远。
但这是第一次，他们按照那个大胆到近乎荒谬的思路去做，竟然真的在现实世界中看到了预期的、非平凡的迹象！
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